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三星EUV光刻工艺的6nm、7nm芯片已经量产
三星EUV光刻工艺的6nm、7nm芯片已经量产
来源： TGBUS原创 作者： 胖涛 2020-02-21 09:40
2月21日消息，据外媒报道，三星位于韩国的V1 晶圆工厂已经开始大规模生产EUV光刻工艺的6nm与7nm芯片，将在第一季度交付产品，用于高端移动设备。

2月21日消息，据外媒报道，三星位于韩国的V1 晶圆工厂已经开始大规模生产EUV光刻工艺的6nm与7nm芯片，将在第一季度交付产品，用于高端移动设备。

三星表示，V1生产线是三星第一条采用EUV光刻工艺的半导体生产线。V1生产线于2018年2月破土动工，并在2019年下半年开始测试晶圆生产，该生产线生产的第一批产品将在今年第一季度交付给客户。而且除7nm芯片与6nm芯片外，V1生产线还将继续攻关，直至突破3nm壁垒。

三星于2018年2月开始建造V1生产线，并于2019下半年开始晶片的测试生产。现在，该公司将继续扩大V1晶圆厂产能规模。预计到2020年底时，EUV 7nm以下总产能节点数量将是2019年的三倍，且针对V1的累计投资将达到60亿美元。